Zatímco ze začátku byl nový CEO Intelu Lip-Bu Tan spíš skeptický vůči snahám ozdravit a rozšířit vlastní továrny firmy a signalizoval, že 1,4nm proces firmy by mohl být poslední, aktuálně akcie stoupají právě díky nadějím vkládaným do továren spíše než do produktů. Je to patrně kvůli nadějím investorům, že spolupráce s Elonem Muskem a Applem takříkajíc ponese dividendy. A vypadá to, že díky tomu výrobní procesy Intelu opět mají budoucnost.
Technologie Intel 10A a 7A
CEO Lip-Bu Tan tento týden oficiálně potvrdil, že firma už pracuje na dalších dvou generacích křemíkové technologie následujících po 1,4nm procesu (označeném Intel 14A): První z nich bude proces Intel 10A, což znamená 1,0nm („A“ totiž značí ångström, a 1 A = 0,1 nm). Druhým bude proces Intel 7A, což je tedy v přepočtu 0,7nm technologie. Nebo alespoň nominálně. Tato čísla jsou u novodobých výrobních procesů v podstatě arbitrární a mají odrážet relativní pokroky proti předchozím generacím, ne reálné rozměry struktur v čipu.
Proces Intel 10A se v dokumentech Intelu objevil již v éře Patricka Gelsingera, nicméně poté jeho osud visel na vlásku, jak již bylo řečeno, a nevěděli jsme tedy, zda nebude zrušen. Tímto však asi máme potvrzeno, že vývoj nakonec dostal šanci.
Naproti tomu o procesu Intel 7A firma mluví zcela poprvé. Je sice logické, že nějaký plán na následníka 1nm procesu musel existovat, ale doteď o něm firma veřejně nemluvila a ani neprozradila, jaké jméno (či „nanometrové číslo“, chcete-li) ponese. Tchajwanské TSMC, které je ve výrobě nejpokročilejších čipů lídrem, zatím potvrdilo pouze 1,4nm proces a jeho 1,3nm a 1,2nm deriváty patřící do stejné rodiny. Je celkem pravděpodobné, že po nich také přejde na 1,0m technologii, ale jaký krok bude následovat poté, to nevíme.
Oba procesy Intelu by měly používat novou generaci EUV expozice se stroji s tzv. vysokou numerickou aperturou („High-NA“). Ty totiž Intel plánuje nasadit už na 1,4nm procesu. Technologie High-NA má výrazně zjemnit struktury na čipu a umožnit tak další škálování křemíkové litografie. Mají ale i nevýhodu – dosahuje toho tak, že masku zaostří na menší prostor a kvůli tomu nebude možné vyrábět tak velké čipy, jako na předchozích generacích procesů (jedinou cestou tedy bude čipy rozdělovat do více čipletů).
V praxi asi až po roce 2030
Kdy se těmito technologiemi začnou vyrábět čipy, to není jisté. Dřívější plány chtěly start výroby 1,0nm procesu spustit nějaké dva roky pro 1,4nm procesu, který se ale od té doby už opozdil, teprve letos v říjnu má být dostupná verze 0.9 pravidel pro návrh a výrobu čipů (tzv. process design kit). Intel původně chtěl na procesu 14A spustit zkušební výrobu začátkem roku 2026, což se pravděpodobně nepodařilo. Pokud by proces 14A sklouzl do roku 2027 nebo 2028, mohla by výroba na procesu Intel 10A začít pokusně teprve v roce 2029 nebo 2030 (a i u ní může být nabráno další zpoždění). Téměř určitě se tedy bavíme o něčem, co bude na scéně až v příští dekádě.
Zdroje: Tom's Hardware
