GlobalFoundries vyvíjí vlastní 7nm a 10nm výrobní procesy. Stihne to včas?

0

Podle posledních informací se zdá, že GlobalFoundries pracuje na vlastní výrobní technologii pro 7nm a 10nm procesy. Převzetí s IBM Microelectronics jim umožnil přístup ke zkušeným inženýrům a technologiím, od čehož si GF slibují vyvinutí pokročilého a konkurenceschopného výrobního procesu. Stále zde však visí stín dob nedávno minulých, kdy měla společnost problémy vývojem. To se týkalo 32nm SOI procesu, dále se opozdila s 28nm výrobním postupem, zcela zrušila vývoj 28nm FD-SOI výrobního postupu a pozdě na trhu by byla patrně i s vlastním 14nm-XM procesem, který byl nakonec zrušen. Kvůli zachování alespoň jakési konkurenceschopnosti si místo něj licencuje 14nm LPE a 14nm LPP výrobní postupy od Samsung Electronics.

GlobalFoundries 7nm a 10nm

I přes tyto patálie však GlobalFoundries balancuje těsně za těmi největšími výrobci křemíkových čipů. A to především díky manažerům, kteří se snažili, seč mohli, aby společnost udrželi na konkurenceschopné úrovni. Koupili Chartered Semiconductor, přivedli do firmy spoustu talentovaných lidí a navíc se společnost účastní také spousty technologických iniciativ napříč rozličnými průmyslovými odvětvími. Ale i přes toto úsilí je pro GF obtížné udržet krok se zbytkem trhu.

Ale nejvyšší vedení GlobalFoundries věří v lepší zítřky. Akvizice IBM Microelectronics přinesla technologie i lidské zdroje, které by měly vývoj 7nm i 10nm výrobních postupů urychlit. Žádný časový rámec, kdy by se tyto výrobní postupy mělo podařit uvést na trh však výkonný ředitel Sanjay Jha, v rozhovoru pro web EETimes, nezmínil.

Je však téměř jisté, že Samsung Electronics a TSMC uvede 10nm výrobní postup dříve, neboť oba konkurenti plánují tento proces zavést koncem roku 2016 nebo začátkem roku 2017. GlobalFoundries musí nejdříve dodat svým zákazníkům PDK (process design kit), což se většinou dělá zhruba s ročním předstihem před zahájením výroby, což se doposud podle dostupných informací nestalo. PDK je knihovna dokumentů, které obsahují informace o výrobním procesu, na jejichž základě výrobci čip navrhují.

Jha také předpokládá, že extrémní ultrafialová litografie (EUV) nebude dostupná ke komerčnímu užití dříve než v roce 2018 či 2019, proto se v GF zaměřují na jiné optické nástroje pro pokročilé výrobní procesy. EUV však nezatracují a počítají s její pozdější adaptací do výrobních procesů.

Zdroj: KitGuru

Ohodnoťte tento článek!