Občas jako argument proti sankcím na technologie (zejména těm uvaleným na Čínu) zní námitka, že tlak vede jen k tomu, že si postižená země dotyčné produkty vyrobí sama a ještě to bude vzpruha pro její ekonomiku. Tak jednoduché to není, nicméně se zdá, že Číně se teď daří ve snahách učinit svůj technologický průmysl zcela soběstačným a schopným vyrobit vše přímo doma. Čína teď patrně bude mít nejen vlastní čipy, ale i stroje na ně.
DUV stroje (převážně) od Shanghai Yuliangsheng Technology
Web The Information sdělil, že čínská firma Shanghai Yuliangsheng Technology aktuálně začala vyrábět vlastní stroje pro tzv. imerzní optickou litografii pomocí DUV. Jedná se o tzv. scannery, čímž se myslí stroje, které pomocí světla ozařují připravený povrch křemíkového waferu při procesu, kterým se při výrobě čipů přenášejí struktury z masek na samotný wafer. Postupnými kroky se takto vytvářejí tranzistory a poté i kovové vrstvy spojů. Tyto stroje jsou klíčové pro realizaci pokročilé výroby čipů, ale Čína dosud neměla vlastní, dodávají je „západní“ firmy v čele s nizozemskou společností ASML.
ASML je známá zejména tím, že je unikátním zdrojem extrémně sofistikovaných strojů používajících technologii EUV, které dnes nemůže nic nahradit a jsou schopné vytvářet mnohem drobnější struktury na čipu díky použití tzv. extrémního ultrafialového záření s vlnovou délkou 13,5 nm. EUV je kritická technologie pro výrobu logických čipů na 5nm a menších procesech, ale i nejnovějších generací pamětí DRAM.
Naproti tomu pod označením DUV (hluboké UV záření) se míní klasická starší technologie předcházející EUV, používající argon-fluoridové excimerové lasery s vlnovou délkou 193 nm. Označení imerzní pak vyjadřuje to, že rozlišení přístroje je zlepšeno pomocí lomu světla v kapalině (nad rámec toho, co by poměrně vysoká 193nm vlnová dálka dokázala efektivně na povrchu čipu ostře promítnout bez této pomůcky). To, že čínská firma dokázala poprvé rozběhnout výrobu takovýchto strojů, tedy není samo o sobě technologický průlom, protože obě technologie jsou již zavedenými výrobci čipů používány po desetiletí (a i tyto stroje dodává firma ASML). Pro Čínu je významné to, že má konečně jejich vlastní zdroj a tyto stroje tak mohou používat i například společnosti, na které jsou kvůli strategické bezpečnosti uvalené sankce (např. výroba pro vojenský průmysl).
Tyto čínské stroje pro optickou litografii vyrábějící technologií DUV jsou také zatím jen v malosériové výrobě, letos má být vyrobeno pět kusů. Od roku 2027 se počítá s výstupem dvaceti strojů ročně, což už je významnější. Nicméně výroba ASML je oproti výstupu čínské firmy mnohem vyšší – firma údajně v roce 2026 dodala na trh 131 svých strojů stejného účelu. Shanghai Yuliangsheng Technology počítá s tím, že její stroje budou odebírat čínští foundry výrobci SMIC a Hua Hong, jakož i čínský výrobce pamětí CXMT.
Zdá se, že stroj není úplně zcela složený jen z komponent vyráběných v Číně, třebaže ty mají převažovat. Některé části, včetně možná i nějakých klíčových prvků, jsou importované z Japonska. Pokud by tedy měla výroba na starších procesech před EUV být v Číně zcela nezávislá, bylo by nutné nahradit i tyto zbývající komponenty. I v současné podobě ale stroj může být vývojovým stupněm, který k takovému milníku povede.
Jiná otázka je, zda se firmě podaří eventuálně vyvinout (či okopírovat od ASML) technologii EUV, která je mnohem složitější. EUV záření s vlnovou délkou 13,5 nm je generované plazmou z par tvořených precizně dávkovanými kapičkami cínu ozařovanými pulzy laseru, což bylo nesmírně obtížné nejen zprovoznit, ale zejména vyvinout mašinerii, která tento proces trvale a spolehlivě udržuje v chodu s vysokou „svítivostí“ potřebnou k dostatečně rychlé výrobě čipů.
Laser použitý při výrobě čipů
Lokální DUV nemusí být na stejné technické úrovni
Nicméně to, že čínští výrobci budou mít možnost pořídit alternativu k západním strojům, nemusí ještě znamenat, že jim sankce neškodí. Je slušná pravděpodobnost, že domácí litografické stroje mohou vykazovat horší kvalitu výstupu, spolehlivost nebo ekonomii provozu (větší downtime, ale také možná menší výkon). To, že dosavadní dodavatelé včele s ASML svému oboru vládli a čínské firmy používaly jejich přístroje, místo aby si vyvinuly vlastní, totiž nejspíš mělo své důvody a náskok se nebude dát dohnat přes noc. Horší úroveň vybavení pro výrobu z domácích zdrojů pak může znevýhodňovat čipy vyrobené pomocí těchto strojů proti globální konkurenci.
Dobrý příklad pro ilustraci asi může být Huawei. Firma kvůli sankcím musela na čas přestat vyrábět vlastní čipy pro mobily protože ztratila přístup k výrobě v TSMC a k architekturám jader licencovaným od firmy Arm. Po několika letech se ovšem přes tyto překážky vrátila s novými procesory, které jsou vyráběné v lokálním SMIC a mají vlastní jádra CPU i GPU, což bylo hodnoceno tak, že se firmě americké sankce podařilo překonat. Je to však vítězství? Tyto čipy i po vydání více různých generací výrazně zaostávají ve výkonu a energetické efektivitě a nemohou se rovnat aktuálním technologiím globálních firem ať už je to Qualcomm, MediaTek, Samsung nebo Apple. Takže se dá říct, že sankce fungují.
Zdroj: techPowerUp, The Information
ČLÁNKY DO MAILU